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不銹鋼人工鈍態保護膜耐蝕性的研究

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在海水等中性氯化物環境中,當不銹鋼出現局部腐蝕時,鈍態保護膜受到局部破壞部位的液性濃度為低pH、高Cl-。為弄清鈍態保護膜的防蝕特性,必須了解保護膜在HCl等酸性氯化物溶液中的溶解速度。…

在海水等中性氯化物環境中,當不銹鋼出現局部腐蝕時,鈍態保護膜受到局部破壞部位的液性濃度為低pH、高Cl-。為弄清鈍態保護膜的防蝕特性,必須了解保護膜在HCl等酸性氯化物溶液中的溶解速度。但是,很多普通不銹鋼在HCl中不會產生鈍態,因此很難知道在實際鈍態保護膜中保護膜的組成與耐蝕性的關系。為此,日本就合金元素對采用化學氣相沉積法(CVD)和離子束噴射沉積法(IBSD)制作的Fe2O3-Cr2O3復合氧化物薄膜(人工鈍態保護膜)在酸中的溶解速度的影響進行了定量評價。

根據在5kmol·m-3HCl中CVD-Fe2O3-Cr2O3薄膜厚度減小的速度(下稱“溶解速度”)和Cr3+陽離子百分率XCr的關系可知,溶解速度與XCr對應,呈指數函數式減小,當XCr=0.5(相當于10.5%Cr鋼的實際鈍態保護膜)時,溶解速度會下降至大約1/100為止。假設溶解速度是按照單純的加成法則下降,那么,當XCr=0.5時,溶解速度的下降僅為1/2,由此可知復合化的效果是非常大的。XCr=0.5的保護膜的溶解速度為5×10-5nm/s,這意味著將厚度為1nm的保護膜放在5kmol·m-3HCl中(溶液的濃度為濃酸鹽的1/2左右)完全溶解需要大約5.5小時,可以說Cr富集的復合氧化物對HCl具有極高的耐蝕性。

由于Fe2O3-Cr2O3復合氧化物具有半導體的性質,因此會產生電化學的溶解反應。根據在1kmol·m-3HCl中IBSD-Fe2O3-Cr2O3薄膜的溶解速度與電位的關系可知,在電位小于0.6V的區域Ⅰ中,Fe2O3成分發生了還原溶解;在電位高于0.9V的區域Ⅲ中,Cr2O3成分發生了氧化溶解。電位越低,還原溶解的速度越高,即越靠近Fe-Cr合金的活性溶解區域,還原溶解速度越高,但如果增大XCr,還原溶解速度會下降,在XCr>0.7的情況下,還原溶解速度低于檢測極限(在圖3的實驗中,溶解速度為1×10-5nm/s)。在電位為0.6V~0.9V的區域Ⅱ中(相當于不銹鋼鈍態區域的高電位側),溶解速度極低,與薄膜的XCr無關。由此可知,Cr富集的鈍態保護膜能發揮特別有效的防蝕功能在于鈍態保護膜處于低電位側。由此也確認了MoO2能有效抑制Fe2O3成分的還原溶解。

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