近年來(lái)磁控濺射法制備薄膜的技術(shù)在工業(yè)生產(chǎn)和研究領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用。在電子、半導(dǎo)體行業(yè)、薄膜發(fā)光材料等許多方面的應(yīng)用。磁控濺射技術(shù)已經(jīng)成為沉積耐磨、耐蝕、裝飾、光學(xué)及其他各種功能薄膜的重要手段。

在許多行業(yè)大量使用薄膜材料，建筑玻璃，顯示屏以及太陽(yáng)能電池中都含有薄膜材料，產(chǎn)生薄膜最重要的工藝是濺射沉積，濺射沉積是在真空腔體里進(jìn)行的，薄膜材料來(lái)自旋轉(zhuǎn)濺射靶材，這種靶材可以是陶瓷，金屬和塑料，在濺射開(kāi)始時(shí)，空氣不斷被分子泵抽走，真空中的壓力大約為十的負(fù)五帕級(jí)別，氬氣不斷引入到腔體中，形成低壓壓氣氛圍，濺射鍍膜的關(guān)鍵是輝光放電，即一種低壓氣體放電，靶材內(nèi)部通有冷卻水，以帶走濺射過(guò)程中產(chǎn)生的熱量，高電壓被施加在靶材上，從而形成等離子體，并沿著磁場(chǎng)集中，等離子體由氬原子和帶正電的氬離子以及自由電子組成，電子撞擊氬原子從而產(chǎn)生帶正電荷的氬離子濺射靶材是帶負(fù)離子的，因此氬原子被吸引到靶材表面，以金屬靶材為例，氬離子撞擊靶材，從靶材表面轟擊出金屬原子，這些被轟擊的金屬原子一層層的沉積在靶材對(duì)面的襯底上，從而形成薄膜。

同樣以金屬靶材為例，磁控濺射法制備的薄膜通過(guò)X射線衍射儀檢測(cè)出的相結(jié)構(gòu)為非晶，非晶材料本身具有高強(qiáng)度，高硬度，耐腐蝕，抗菌，光澤度高等性質(zhì)，磁控濺射法制備的薄膜在其本身性質(zhì)的基礎(chǔ)上進(jìn)一步增加了非晶材料的性質(zhì)，因而此技術(shù)被廣泛應(yīng)用與電子，光學(xué)，核電，醫(yī)學(xué)和建筑等領(lǐng)域。